硅晶圆崩边检测方案

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2022/11/28

作者:adminBOSS

硅晶圆是半导体集成电路中的关键部分,硅晶圆的生产制造中包含切割、研磨等多道工序,这些工序繁琐复杂,过程中有可能会使硅晶圆产生崩边、裂纹等缺陷。这些缺陷会直接影响产品品质,因此需要经过严格的检测。

 

 

 

硅晶圆属于精密产品,表面缺陷非常微小,人眼无法识别,需要采用高分辨率显微成像系统进行图像采集,完成缺陷识别。

 

 

 

检测方案:

 

1. 镜头使用普密斯4K变倍工业镜头

 

2. 搭配1英寸高清CCD相机;

 

3. 配合普密斯视觉光源及图像处理系统。

 

 

 

检测效果:

 

 

 

普密斯4K变倍工业镜头具有大靶面、高分辨率、大视野等特点,可以真实高倍率的还原硅晶圆表面图像,帮助更快更轻松的识别硅晶圆崩边瑕疵。

 

 

 

普密斯是一家机器视觉及工业自动化核心产品供应商,对于缺陷识别、视觉定位、尺寸测量等工业检测都可提供完整解决方案。

 

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