在工业视觉测量领域，选择正确的光学成像技术往往决定了检测的成败。明场、暗场和偏振作为三种基础却各具特色的观察方式，在不同应用场景下展现出截然不同的成像效果。据统计，在机器视觉系统应用中，超过70%的成像质量问题源于不恰当的照明方式选择。合适的成像技术不仅能提升图像对比度，还能减少后续图像处理的复杂度，在微米级精密检测领域尤为关键。
一、 明场成像：工业检测的“主力军”
明场成像是最基础、最常用的光学成像技术。利用可见光直接透射或反射样品，通过样品不同区域对光吸收或反射的差异形成图像对比度。
在明场照明下，光源位于相机视野的反射锥内（高角度照明）。样品特征表现为：
① 吸收/散射光的区域呈现暗色；
② 反射/透射光的区域呈现亮色；
③ 背景整体明亮。
二、暗场成像：微观缺陷的“放大镜”
当常规明场无法揭示样品微妙结构时，暗场成像便展现出独特价值。屏蔽直射光，仅收集样品的散射光或衍射光。通过特殊光路设计（如暗场光阑）形成倾斜照明。
在暗场成像中表现为：
① 背景通常呈现黑暗；
② 只有样品的边缘或细微结构被高亮显示；
③ 微小结构在暗背景下清晰可见。
三、偏振成像：晶体材料的“鉴别师”
偏振观察利用光的偏振特性，专门用于鉴定物质的双折射性。其核心是通过起偏器与检偏器组合，产生并检测偏振光的变化。
当偏振光通过具有双折射特性的材料时：
① 晶体结构会改变光的偏振状态；
② 通过分析这些变化，可以识别材料特性；
③ 样品的光学各向异性被转化为可见对比度。
现代工业检测的精髓在于为每个特定问题选择最合适的“光学钥匙”。明场、暗场和偏振成像不是相互竞争的技术，而是互补的工具集，共同构成了精密视觉测量的基础框架。
产品推荐
技术方案
MORE+您可能也对以下信息感兴趣
咨询POMEAS 
价格垂询 
申请演示/测试 
免费试用 
精准选型 
电话:400-168-8336
传真:+ 86-0769-22660867
邮箱:marketing@pomeas.com
公司地址
生产中心：广东省东莞市东城区柏洲边社区涌尾路68号
营销中心：东莞市松山湖高新区中集智谷产业园15栋
苏州办事处：苏州市工业园区唯新路60号启迪时尚科技城40栋
微信二维码